ポジ型感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359321
公開番号（公開出願番号）：特開2003-162059
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物、更にはエッジラフネス及び現像欠陥についても改善されたポジ型感光性組成物を提供することにある。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物、及び、(B)特定のノルボルネン構造を有する繰り返し単位及び(メタ)アクリル繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物、及び、(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位及び(メタ)アクリル繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式(I)中:R1〜R4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、-COOH、置換基を有していてもよい炭化水素基、-COOR5、-C(=O)-X-A-R6、又は酸の作用により分解する基を表す。尚、R1〜R4のうち少なくとも2つが結合して環を形成してもよい。R5は、置換基を有していてもよい炭化水素基又はラクトン残基を表す。R6は、水素原子、-COOH、-COOR5、-CN、水酸基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又はラクトン残基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NHSO2-、又は-NHSO2NH-を表す。Aは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、スルホンアミド基、及びN-スルフォニルアミド基よりなる群から選択される単独或いは2つ以上の基の組み合わせを表す。nは0又は1を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F232/00 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F232/00 , H01L 21/30 502 R

Fターム (61件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025FA17 , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL09R , 4J100AR09P , 4J100AR32P , 4J100AR36P , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA06P , 4J100BA11P , 4J100BA11S , 4J100BA12P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA16P , 4J100BA18P , 4J100BA34P , 4J100BA35P , 4J100BA40P , 4J100BA40R , 4J100BA55P , 4J100BA56P , 4J100BA58P , 4J100BC02Q , 4J100BC02R , 4J100BC03R , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC07P , 4J100BC07Q , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC53P , 4J100BC53S , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

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