特許
J-GLOBAL ID：200903077310209765
フオトレジスト用ビニルフエノール系重合体の精製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339728
公開番号（公開出願番号）：特開平5-148309
出願日： 1991年11月28日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：
【要約】【構成】 ビニルフェノール系重合体を溶媒に溶解して第VIII族金属触媒の存在下に水素と接触させる水素化工程に付し、該水素化工程の処理溶液を強酸性カチオン交換樹脂と接触させる金属除去工程に付す。【効果】 遠紫外光の透過率が向上され、かつ金属含有量の低減されたフォトレジスト用の精製ビニルフェノール系重合体を得ることができ、しかもかかる精製ビニルフェノール系重合体が水素化工程の処理溶液を金属除去工程に付すという簡単な操作で容易に経済的に得ることができる。
請求項（抜粋）：
ビニルフェノール系重合体を溶媒に溶解して第VIII族金属触媒の存在下に水素と接触させる水素化工程に付し、該水素化工程の処理溶液を強酸性カチオン交換樹脂と接触させる金属除去工程に付すことを特徴とするフォトレジスト用ビニルフェノール系重合体の精製方法。
IPC (3件)：
C08F 6/08 MFK
, C08F 8/04 MGB
, C08F 12/24
