特許

J-GLOBAL ID：200903077333429312

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： 松家 毅 ,  松永 実信
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-184701
公開番号（公開出願番号）：特開平11-031673
出願日： 1997年07月10日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】 基板上のパーティクルを確実に除去することが可能な基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】 基板Wの裏面外周部を吸引保持する回転保持部1上に基板Wを吸着保持し、表面に純水を回転塗布して薄い純水膜を形成する。冷却ノズル16から回転保持部1の裏面に液体窒素を吐出して回転保持部1を冷却し、さらに、基板Wを間接的に冷却し、水膜を凍結させて氷膜を形成する。純水供給ノズル12から高圧の純水を吐出し、パーティクルを含む氷膜を基板Wから剥離して除去する。パーティクルは氷膜とともに基板Wから除去される。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転駆動される回転保持部と、前記回転保持部を氷点下に冷却する冷却手段と、冷却された前記回転保持部上の前記基板の表面に形成される氷膜を除去する除去手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M