表面処理したカーボンブラック及びそれを含有してなるブラックマトリックス用レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安富康男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-399450
公開番号（公開出願番号）：特開2002-201381
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】表面処理したカーボンブラック、及びそれを含有してなる着色力及び隠蔽力が大きく、絶縁性に優れる新規なブラックマトリックス用レジスト組成物を提供する。【解決手段】カルボキシル基含有カーボンブラックの表面をカルボジイミド基を含有する化合物によって表面処理してなるカーボンブラック及びこのカーボンブラックを含有するブラックマトリックス用レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

カルボキシル基含有カーボンブラックの表面をカルボジイミド基を含有する化合物によって表面処理してなることを特徴とするカーボンブラック。

IPC (4件)：

C09C 1/56 , C09C 3/08 , C09C 3/12 , G03F 7/004 505

FI (4件)：

C09C 1/56 , C09C 3/08 , C09C 3/12 , G03F 7/004 505

Fターム (10件)：

2H025AA00 , 2H025AA20 , 2H025AB13 , 2H025AB17 , 2H025CC12 , 4J037AA02 , 4J037CB18 , 4J037EE02 , 4J037FF02 , 4J037FF11

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭50-103530

審査官引用 (1件)

特開昭50-103530

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