特許
J-GLOBAL ID:200903077364856146
強誘電トランジスタ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
原 謙三 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-527362
公開番号(公開出願番号):特表2003-510848
出願日: 2000年09月15日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】半導体基板(11)に、2つのソース/ドレイン領域とそれらの間に配置されたチャネル領域とを備える強誘電体トランジスタにおいて、チャネル領域の表面に、Al2O3を含む第1誘電中間層(14)が配置されている。第1誘電中間層(14)の上には、強誘電層(15)とゲート電極(16)とが配置されている。第1誘電中間層にAl2O3を利用することによって、チャネル領域から第1誘電中間層(14)へ補償電荷が突き抜けるのを抑制し、それによってデータ保持時間が改善される。
請求項(抜粋):
2つのソース/ドレイン領域(13)とそれらの間にあるチャネル領域とを、半導体基板(11)に備え、 Al2O3を含む第1誘電中間層(14)が上記チャネル領域の表面に配置されており、 強誘電層(15)およびゲート電極(16)が、上記第1誘電中間層(14)の上に配置されている強誘電トランジスタ。
IPC (4件):
H01L 27/105
, H01L 21/8247
, H01L 29/788
, H01L 29/792
FI (2件):
H01L 27/10 444 A
, H01L 29/78 371
Fターム (10件):
5F083FR06
, 5F083GA11
, 5F083JA02
, 5F083JA13
, 5F083JA15
, 5F083JA17
, 5F083JA19
, 5F101BA62
, 5F101BD02
, 5F101BF02
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