特許
J-GLOBAL ID:200903077365330741

光学的位置検出器およびスケール製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-292786
公開番号(公開出願番号):特開平5-126604
出願日: 1991年11月08日
公開日(公表日): 1993年05月21日
要約:
【要約】【目的】簡単で精密な位置検出器を提供する。【構成】反射回折溝を形成したスケールに、2つ以上のレーザースポットを絞り、それぞれの反射光の受光信号を用いて位置検出する。【効果】光源に一般の半導体レーザーを使用し、簡単な光学系で信号検出できる、レーザー測長器に匹敵する高精度の分解能を得る事ができる。
請求項(抜粋):
周期的な反射回折溝を形成したスケールを配置し、少なくとも2つのレーザービームをそのスケール上に絞る手段、及び、それらのレーザービームがスケールから反射する光を受光する少なくとも2つの光検出部を有し、レーザーの絞りスポットとスケールを相対的に移動させ、光検出部の受光信号を位置検出に用いる事を特徴とする光学的位置検出器。

前のページに戻る