特許

J-GLOBAL ID：200903077368155304

単結晶体製造装置

発明者： 中静 恒夫 ,  神田 勲 ,  大久保 正道
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  ニッテツ電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-076925
公開番号（公開出願番号）：特開平6-293587
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：

【要約】【目的】 融液の不純物汚染を回避しつつ、引上げ中の単結晶体を急冷することができる単結晶体製造装置を提供する。【構成】 引上げチャンバ2bの天井部6aの内壁に水平方向に環状の溝21を切って、引上げチャンバ2bの見掛けの輻射率を大きくする。

請求項（抜粋）：

融液を収容するるつぼと当該るつぼ内の原料を加熱する加熱ヒータとを内蔵する加熱チャンバと、当該加熱チャンバの開口部を覆う加熱チャンバ天井部と当該天井部の中央部に前記るつぼから引き上げられる単結晶体を内部に収納する収納部とで形成された引上げチャンバとを有する単結晶体製造装置において、前記加熱チャンバ天井部内壁の少なくとも引上げ中の単結晶体を臨む部分に凹凸を設けたことを特徴する単結晶体製造装置。

IPC (4件)：

C30B 15/00 ,  C30B 29/06 ,  C30B 29/06 502 ,  H01L 21/208