特許
J-GLOBAL ID:200903077372776623

高分子光導波路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-300807
公開番号(公開出願番号):特開平8-160239
出願日: 1994年12月05日
公開日(公表日): 1996年06月21日
要約:
【要約】【目的】 基板間の間隙を無くして、各コア間における光の漏洩がない、光導波特性に優れた高分子光導波路の製造方法を提供する。【構成】 キャピラリとなる溝のパターンが形成されたパターン基板のパターン面を平面基板に密着させてその溝によりキャピラリを形成した後、光導波路のコアの原料であるモノマ溶液6を毛細管現象によりキャピラリに充填させてから、モノマ溶液を高分子化させることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
請求項(抜粋):
キャピラリとなる溝のパターンが形成されたパターン基板のパターン面を平面基板に密着させて前記溝によりキャピラリを形成した後、光導波路のコアの原料であるモノマ溶液を毛細管現象により前記キャピラリに充填させてから、前記モノマ溶液を高分子化させることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
IPC (2件):
G02B 6/13 ,  C08F 2/02 MAS
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-244434
  • 特開平3-132705
  • 特開平2-173710

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