特許
J-GLOBAL ID：200903077379079812
露光方法及び露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-249003
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077315
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】 ステージ位置にかかわらず光ビームの光軸が常に適正な状態で露光することを、スループットを低下させることなく実現することである。【解決手段】 ウエハステージWSが計測位置(ウエハ受け渡し位置)にあるときに、光源12からの光ビームILの光軸の位置情報(角度ずれ及び位置ずれ)をモニタユニット29により計測し、該位置情報及びステージWSが前記計測位置にあるときとステージWSの移動可能範囲内に前記計測位置とは離間して選定された複数の基準位置(例えば、各ショット領域の露光時のそれぞれに対応する位置)にステージWSがあるときの光ビームILの光軸の変位情報(角度ずれ及び位置ずれ)のそれぞれに基づいて、ウエハWの各ショット領域について露光するときに、光軸補正系23,24により光ビームの光軸調整を行う。変位情報は予め計測されて記憶装置20aに記憶されている。
請求項（抜粋）：
露光エネルギービームをマスクに照射し、該マスクのパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光方法において、前記基板を載置するためのステージが所定の計測位置にあるときに、前記露光エネルギービームの光軸の位置情報を計測し、該計測された光軸の位置情報、及び前記ステージが前記計測位置にあるときと前記ステージの移動可能範囲内に前記計測位置に対して離間して選定された複数位置に前記ステージがあるときとの前記露光エネルギービームの光軸の変位情報のそれぞれに基づいて、前記ステージに載置された基板を露光するときに前記露光エネルギービームの光軸調整を行うことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 514 C
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 B
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC16
, 5F046CD04
, 5F046DA12
, 5F046DB05
