特許
J-GLOBAL ID：200903077383591609
化学的機械研磨装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-307261
公開番号（公開出願番号）：特開平8-167585
出願日： 1994年12月12日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】【目的】 被加工面となる基板面内での研磨速度の均一性向上を図る。【構成】 表面に研磨布が張設された研磨テーブル1と、研磨テーブル1に対向する状態で回転可能に支持された基板保持部4を有し且つ基板保持部4にて保持した基板5の被加工面を研磨布2を介して研磨テーブル1の表面に圧接させる基板保持機構と、研磨布2に穿設された複数の研磨剤供給孔6を有し且つ研磨剤供給孔6を通して研磨テーブル1側から研磨剤を供給する研磨剤供給系と、研磨剤供給孔6に対応して研磨布2に穿設された研磨剤排出孔8を有し且つ研磨剤排出孔8を通して研磨テーブル1側に研磨剤を排出する研磨剤排出系とを備える。
請求項（抜粋）：
表面に研磨布が張設された研磨テーブルと、前記研磨テーブルに対向する状態で回転可能に支持された基板保持部を有し、該基板保持部にて基板を保持しつつ該基板の被加工面を前記研磨布を介して前記研磨テーブルの表面に圧接させる基板保持機構と、前記研磨布に穿設された複数の研磨剤供給孔を有し、該研磨剤供給孔を通して前記研磨テーブル側から研磨剤を供給する研磨剤供給系と、前記研磨剤供給孔に対応して前記研磨布に穿設された研磨剤排出孔を有し、該研磨剤排出孔を通して前記研磨テーブル側に研磨剤を排出する研磨剤排出系とを備えたことを特徴とする化学的機械研磨装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 321
, B24B 37/00
