特許
J-GLOBAL ID：200903077384978396
二酸化ケイ素被膜の製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-341824
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165411
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：
【要約】【目的】 二酸化ケイ素の製造方法および装置に係り、析出に伴う成膜速度の低下を防止し処理効率を向上する。【構成】 基材12を浸漬する処理液2を処理槽3内において流動させ、活性剤添加部5を基材12の上流側近傍に配することにより、活性剤11の添加によって局所的に二酸化ケイ素の過飽和度を高めた処理液2を、その下流に配される基材12の周囲に流通させ、基材12表面における二酸化ケイ素の析出を連続的に促進する。
請求項（抜粋）：
二酸化ケイ素が過飽和状態となったケイフッ化水素酸水溶液を含む処理液と基材とを接触させて基材表面に二酸化ケイ素被膜を析出させる方法において、前記処理液を流動させるとともに、該処理液と基材を接触させ、かつ、該基材の上流側近傍に活性剤を添加し、更に該基材上流側の該活性剤添加箇所に至るまでの間にポンプやフィルタ等が介在しないことを特徴とする二酸化ケイ素被膜の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 33/12
, C23C 18/00
, H01L 21/316
