特許

J-GLOBAL ID：200903077385254537

大型ガラス基板のエア吸着方法

発明者： 小塚 敏幸 ,  加藤 和博 ,  浅見 浩一
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346300
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183366
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 載置台2に対して大型ガラス基板11の全面を確実に密着して安定に固定する。【構成】 載置台2の表面に、載置される大型ガラス基板11の中心点Oに関して対称的で、適当な間隔に配列された複数の方形の吸着溝21a 〜21d を設ける。載置台2に載置されて周辺が上方に湾曲したガラス基板11を、その中心点Oに近い吸着溝21a から遠い吸着溝21b,21c,21d の順序で、適当なタイムラッグδtをなして順次にエア吸着し、ガラス基板11の全面を載置台2に密着させる。【効果】 大型ガラス基板11は、載置台2に安定に固定されるので、位置ズレの発生が防止されるとともに、その全面に対して露光装置の焦点を合焦することができ、マスク板52のパターンが正確に投影露光される。

請求項（抜粋）：

液晶パネル用の方形の大型ガラス基板を対象とし、載置台に載置され、エア吸着された該ガラス基板に対して、マスク板のパターンを転写する露光装置において、前記載置台の表面に、前記載置されるガラス基板の中心点に関して対称的で、適当な間隔に配列された複数の方形の吸着溝を設け、前記載置台に載置されて周辺が上方に湾曲した大型ガラス基板を、該中心点に近い吸着溝から遠い吸着溝の順序で、適当なタイムラッグをなして順次にエア吸着してその全面を前記載置台に密着させることを特徴とする、大型ガラス基板のエア吸着方法。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  B23Q 3/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭55-160439
  
• ウェハステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-201560   出願人：株式会社東芝
• 特開昭55-160439