特許

J-GLOBAL ID：200903077387907910

パターン検査装置、パターン検査方法およびパターン検査プログラムを格納した記録媒体

発明者： 磯村 育直
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-273717
公開番号（公開出願番号）：特開2000-106336
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】 光近接補正パターンが付加された微細パターンにおいて、高い精度で欠陥の発生を判定可能なパターン検査装置を提供することである。【解決手段】 設計パターンデータにもとづいて設計側データを生成する設計側データ生成部と、被測定試料のパターンに対応した測定パターンデータを生成する測定データを生成する測定データ生成部と、前記設計側データと測定データを比較する比較回路とを有するパターン検査装置において、前記設計側データ生成部が、設計パターンデータを展開する設計データ展開手段と、前記設計データ展開手段で展開された設計パターンのイメージデータから光近接補正用付加パターン部分を検出し、当該部分に付加パターンに応じた修正を加える設計データ修正手段とを有する。

請求項（抜粋）：

設計パターンデータにもとづいて設計側データを生成する設計側データ生成部と、被測定試料のパターンに対応した測定パターンデータを生成する測定データ生成部と、前記設計側データと測定データを比較する比較回路とを有するパターン検査装置において、前記設計側データ生成部が、設計パターンデータを展開する設計データ展開手段と、前記設計データ展開手段で展開された設計パターンのイメージデータから光近接補正用付加パターン部分を検出し、当該部分に付加パターンに応じた修正を加える設計データ修正手段とを有することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

H01L 21/30 502 W ,  G03F 1/08 S ,  G03F 1/08 T ,  G01N 21/88 645 A

Fターム (11件)：

2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA71 ,  2G051AB02 ,  2G051AB11 ,  2G051CA03 ,  2G051ED04 ,  2H095BB01 ,  2H095BD04 ,  2H095BD28 ,  2H095BD31