特許

J-GLOBAL ID：200903077389681804

露光装置、露光条件決定方法および収差測定方法

発明者： 片岡 義治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-164569
公開番号（公開出願番号）：特開平8-335548
出願日： 1995年06月08日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】 露光装置において、高価な装置を用いずに高精度および高速にフォトレジストの種類に対応した最適露光条件や投影光学系の収差を測定できるようにする。【構成】 感光基板W上に所定のパターンを異なる露光条件で複数回露光転写してパターンの複数の感光像を形成する第1工程と、複数の感光像を撮像して電気信号に変換する第2工程105と、この信号に基づいて感光像の形状に関する情報を得る第3工程108と、この得られた情報に基づいて最適な露光条件を決定する第4工程109とを具備する。

請求項（抜粋）：

感光基板上に所定のパターンを異なる露光条件で複数回露光転写して前記パターンの複数の感光像を形成する第1工程と、前記複数の感光像を撮像して電気信号に変換する第2工程と、この信号に基づいて前記感光像の形状に関する情報を得る第3工程と、この得られた情報に基づいて最適な露光条件を決定する第4工程とを具備することを特徴とする露光条件の決定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D