特許

J-GLOBAL ID：200903077392852679

投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置

発明者： 大村 泰弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-315454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185480
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】200nm以下の波長、特に100nm以下の軟X線波長域で、大きな開口数を有し、50nmを大幅に下回る解像度を有する投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置を提供すること。【解決手段】 第1面Mの像を第2面Wに投影する投影光学系TLにおいて、光軸AXを含まない領域に円弧形状の視野領域EAを有し、かつ瞳面に遮蔽領域SAを有する。

請求項（抜粋）：

第1面の像を第2面に投影する投影光学系において、光軸を含まない領域に円弧形状の視野領域を有し、かつ瞳面に遮蔽領域を有することを特徴とする投影光学系。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/00 ,  G03F 7/20 503

FI (5件)：

G02B 17/00 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 A