特許
J-GLOBAL ID：200903077393927001
洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-004335
公開番号（公開出願番号）：特開平8-192121
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 低濃度の薬液でSiウエハに付着している金属不純物を溶解し、かつ再付着させない洗浄装置を提供する。【構成】 Siウエハ7を浸漬して洗浄し、イオン交換水もしくは電解質を含む水溶液を収納するために陽イオン交換膜1で区切られた陽極槽2、陰極槽3とからなる洗浄槽と、前記陽極槽2、陰極槽3とに各々配置した電極4、5と、前記両電極4、5に接続され、これらに水の電解電圧以上の電圧を印加し、陽極槽2側でpHが低く酸化還元電位が高い電解水を生成させる直流電源6とを具備したものである。電解質を含む水溶液を電解処理して得られる酸性で酸化還元電位の高い電解水で洗浄する洗浄装置がえられる。
請求項（抜粋）：
被洗浄物を浸漬して洗浄を行なう洗浄装置において、イオン交換水もしくは電解質を含む水溶液を収納し、隔膜で区切られた陽極槽と陰極槽とからなる洗浄槽と、前記陽極槽と前記陰極槽にそれぞれ配設された電極と、前記両電極に接続され、これらに水の電解電圧以上の電圧を印加させる直流電源とを具備することを特徴とする洗浄装置。
IPC (3件)：
B08B 3/10
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
