特許
J-GLOBAL ID：200903077398092994

粒子線治療システム

発明者：
森山 國夫

森山 國夫 について

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前田 彰彦

前田 彰彦 について

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保江 佳克

保江 佳克 について

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中山 尚英

中山 尚英 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-212801
公開番号（公開出願番号）：特開2006-006960
出願日： 2005年07月22日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】照射対象でない治療室への誤ったビーム輸送を未然に防止し、安全性を向上する。【解決手段】荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置1と、照射装置15A〜C,16を備えた複数の治療室2A〜C,3と、出射されたビームをビーム進行方向下流側へ輸送する1つの第1ビーム輸送系4と、これから分岐するように設けられビームを複数の治療室2A〜C,3のうち対応するものの照射装置15A〜C,16へそれぞれ輸送する複数の第2ビーム輸送系5A〜Dと、その分岐部にそれぞれ設けられ、第1ビーム輸送系4からのビームを偏向して対応する第2ビーム輸送系5A〜Dへ導入する複数の切替え電磁石6A〜Cと、切替え電磁石6A〜Cより下流側に設けられ、ビーム進行経路を遮断する第1シャッタ7A〜Dとを有する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置と、 前記荷電粒子ビームを照射する照射装置が配置された複数の治療室と、 前記荷電粒子ビーム発生装置に連絡され、前記複数の治療室内の前記各照射装置に前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを別々に輸送する複数のビーム輸送系と、 前記ビーム輸送系のうち少なくとも1つに当該ビーム輸送系のビーム経路を遮断する第1シャッタと を備えたことを特徴とする粒子線治療システム。
IPC (4件)：
A61N 5/10 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04
FI (6件)：
A61N5/10 S ,  A61N5/10 H ,  G21K1/04 S ,  G21K5/04 A ,  H05H13/04 M ,  H05H13/04 N
Fターム (18件)：
2G085AA13 ,  2G085BA14 ,  2G085BA16 ,  2G085CA04 ,  2G085CA05 ,  2G085CA22 ,  2G085CA24 ,  2G085CA26 ,  2G085DA02 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG03 ,  4C082AG06 ,  4C082AG43 ,  4C082AR02 ,  4C082AT04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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