特許
J-GLOBAL ID：200903077400782146
電子ビーム描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052377
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259041
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 マスク乾板上にパターンが存在する場合でも乾板の高さ変動による電子ビーム偏向量を正確に補正する。【構成】 偏向量測定用パターン15を予めマスク乾板5上に配置しておき、電子ビーム10で走査し、反射電子を検出器4で検出しパターン15の位置を測定する事によりパターン15が存在する位置での電子ビーム10の偏向量補正値を決定する。このパターン15をマスク乾板5上に複数組配置し、測定位置以外での偏向量補正値をソフトウェアにて補間処理を行うことにより、マスク乾板5全面での偏向量補正値を算出する。この値を偏向量制御装置11に与えることにより、既存の装置を用いスループットを低下させること無く高精度な電子ビーム描画を行うことが出来る。
請求項（抜粋）：
マスク乾板上に位置決め偏向器の偏向範囲内の距離に配置された複数個のパターンを複数組配置し、前記位置決め偏向器により前記パターン上に電子を照射し、前記マスク乾板より発生する反射電子または二次電子を検出する検出器と前記マスク乾板のステージの位置を測定するためのレーザー測長器とにより前記パターン位置を測定し、前記偏向量制御装置により前記位置決め偏向器の偏向量の補正を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 B
, H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 K
