特許
J-GLOBAL ID:200903077401750582
欠陥解析装置,検査システム、及び、検査方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-337227
公開番号(公開出願番号):特開2001-156141
出願日: 1999年11月29日
公開日(公表日): 2001年06月08日
要約:
【要約】【課題】欠陥の解析を容易にし、欠陥の原因究明が困難になるのを防止する。【解決手段】ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。
請求項(抜粋):
ワークの製造工程における欠陥を検出する検査装置と、前記欠陥をその種類に対応付けて分類する欠陥分類装置と、少なくとも前記検査装置で検出された欠陥の位置情報と前記欠陥分類装置で分類された前記欠陥の分類情報とを記憶する記憶装置と、該記憶装置に記憶された少なくとも前記欠陥の位置情報と分類情報とを関連付けて表示する欠陥解析装置とを備えた検査システムにおいて、前記欠陥の分類情報は複数であり、前記欠陥解析装置は該複数の分類情報から選択された任意の分類情報を表示するモニタを備えたことを特徴とする検査システム。
FI (2件):
H01L 21/66 Z
, H01L 21/66 A
Fターム (8件):
4M106AA01
, 4M106CA38
, 4M106DA14
, 4M106DH01
, 4M106DJ17
, 4M106DJ21
, 4M106DJ24
, 4M106DJ26
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