特許
J-GLOBAL ID:200903077408896434

SO3の還元処理が可能な排ガス処理用触媒、その製造方法、及び該排ガス処理用触媒を用いた排ガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-357316
公開番号(公開出願番号):特開2005-118687
出願日: 2003年10月17日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】 触媒の性能低下及び触媒後流の装置の腐食の原因となる酸性硫安等含S物質の出発物質である、燃焼排ガスに共存するSO3を効率良く低減し、又は触媒そのものの中でのSO3の生成を抑制するSO3の還元処理が可能な排ガス処理用触媒、その製造方法、及び該排ガス処理用触媒を用いた排ガス処理方法を提供する。【解決手段】 窒素酸化物を含む燃焼排ガスの処理用触媒において、担持されるRu及び/又はIrが、基材表層より深さ150μm以内に、担持量の50重量%以上が含まれることとした。担持されるRu及び/又はIrの金属コロイド溶液、又は担持されるRu及び/又はIrの化合物のうち、少なくとも一種を含む水溶液に浸漬させることによって製造することとした。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
窒素酸化物を含む燃焼排ガスの処理用触媒において、担持されるRu及び/又はIrが、基材表層より深さ150μm以内に、担持量の50重量%以上が含まれることを特徴とするSO3の還元処理が可能な排ガス処理用触媒。
IPC (8件):
B01J23/46 ,  B01D53/86 ,  B01D53/94 ,  B01J23/652 ,  B01J37/02 ,  B22F9/24 ,  F01N3/10 ,  F01N3/28
FI (10件):
B01J23/46 301A ,  B01J23/46 A ,  B01J37/02 301C ,  B22F9/24 F ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 Q ,  F01N3/28 301C ,  B01D53/36 D ,  B01D53/36 102B ,  B01J23/64 103A
Fターム (137件):
3G091AB04 ,  3G091AB11 ,  3G091BA01 ,  3G091BA20 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GB05W ,  3G091GB10X ,  3G091GB16X ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA10X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA32X ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048BB16 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA13B ,  4G069BA20A ,  4G069BA20B ,  4G069BA21C ,  4G069BA26C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB08C ,  4G069BB10C ,  4G069BB12C ,  4G069BC59A ,  4G069BC59B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC70C ,  4G069BC74A ,  4G069BC74B ,  4G069BC74C ,  4G069BD12C ,  4G069BD13C ,  4G069BD14C ,  4G069BE08C ,  4G069BE44C ,  4G069BE46C ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA08 ,  4G069CA12 ,  4G069CA13 ,  4G069EA18 ,  4G069EA19 ,  4G069EB12Y ,  4G069EC29 ,  4G069FA02 ,  4G069FA06 ,  4G069FB06 ,  4G069FB16 ,  4G069FB45 ,  4G069FC02 ,  4G069FC08 ,  4G069FC09 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BA13B ,  4G169BA20A ,  4G169BA20B ,  4G169BA21C ,  4G169BA26C ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB08C ,  4G169BB10C ,  4G169BB12C ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BC70C ,  4G169BC74A ,  4G169BC74B ,  4G169BC74C ,  4G169BD12C ,  4G169BD13C ,  4G169BD14C ,  4G169BE08C ,  4G169BE44C ,  4G169BE46C ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA12 ,  4G169CA13 ,  4G169EA18 ,  4G169EA19 ,  4G169EB12Y ,  4G169EC29 ,  4G169FA02 ,  4G169FA06 ,  4G169FB06 ,  4G169FB16 ,  4G169FB45 ,  4G169FC02 ,  4G169FC08 ,  4G169FC09 ,  4K017AA03 ,  4K017BB02 ,  4K017DA09 ,  4K017EJ01 ,  4K017FB01 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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