特許
J-GLOBAL ID：200903077411418268
三次元光導波路およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-284894
公開番号（公開出願番号）：特開平8-146240
出願日： 1994年11月18日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：
【要約】【構成】 二次元光導波路の表面に一定の間隔を持って掘られた2本の溝の対に挟まれた構造を有する三次元光導波路を製造するに際し、溝の加工をレーザビームにより行う。【効果】 簡易に任意のパターンの三次元光導波路を製造可能であるので、少量低コストに光導波路製造を実現することができる。
請求項（抜粋）：
二次元光導波路の表面に一定の間隔を持って掘られた2本の溝の対に挟まれた構造を有することを特徴とする三次元光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
