特許

J-GLOBAL ID：200903077424836620

ピラゾール化合物の製造方法

発明者： 間瀬 俊明 ,  飯田 剛彦 ,  門脇 千恵 ,  川崎 雅史 ,  浅川 堅一 ,  羽下 裕二
出願人/特許権者： 萬有製薬株式会社
代理人 (1件)： 岩谷 龍
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-546450
公開番号（公開出願番号）：特表2006-505584
出願日： 2003年10月22日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

本発明は、式I:【化1】で表されるピラゾール化合物の製造方法に関する。

請求項（抜粋）：

以下の工程: (a)ヒドラジン溶液を製造する工程; (b)工程(a)のヒドラジン溶液に 式V:

IPC (2件)：

C07D 231/38 ,  C07D 401/04

FI (2件)：

C07D231/38 Z ,  C07D401/04

Fターム (5件)：

4C063AA01 ,  4C063BB02 ,  4C063CC22 ,  4C063DD12 ,  4C063EE05