特許
J-GLOBAL ID：200903077430557597
表面処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-296979
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105637
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：
【要約】【課題】 量産性、操作性およびメンテナンス性を向上させることが可能な表面処理装置を提供する。【解決手段】 ワーク5に注入するイオンを含むプラズマを発生させるための構成部品として、主に、支持電極3、ケース6および対向電極9などの構造的に簡素な構成部品のみを用いて表面処理装置を構成する。構造が複雑で高価なイオン銃等を搭載した場合よりも装置構成が簡略化されると共に製造コストが安くなる。
請求項（抜粋）：
真空槽を備え、イオンを注入することにより被処理体の表面を処理するための表面処理装置であって、前記真空槽の内部に、被処理体を支持する支持電極と、前記支持電極から所定の距離の隙間を隔てて配設され、前記支持電極と共にほぼ閉鎖された処理空間を形成する処理空間形成部材と、前記処理空間に導入されたイオン発生ガスの圧力に応じて前記支持電極と前記処理空間形成部材との前記隙間を調整する隙間調整手段と、前記支持電極と対向する対向電極とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
Fターム (2件)：
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