化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-234648
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043689
出願日： 2001年08月02日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、解像度、感度の性能バランスに優れた特性を有する組成物を提供する。【解決手段】下式(I)で表されるモノマーから導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、nは、0〜4の整数を表し、R1、R2は、それぞれ独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R3、R4は、それぞれ独立にフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表し、R3又はR4は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基である。)

請求項（抜粋）：

下式(I)で表されるモノマーから導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、nは、0〜4の整数を表し、R1、R2は、それぞれ独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R3、R4は、それぞれ独立にフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表し、R3又はR4は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基である。)

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F 32/04 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F 32/04 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 4J100AL08Q , 4J100AR11P , 4J100BA03P , 4J100BB07P , 4J100BC09Q , 4J100CA04 , 4J100CA13 , 4J100DA39 , 4J100EA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (8件)

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-182430 出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
含フルオロポリマー及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-326660 出願人：三星電子株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-027408 出願人：ジェイエスアール株式会社

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