電子ビ-ム描画装置およびそれにより描画されたパタ-ンを有する半導体デバイス

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯村雅俊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003904
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208388
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】クリーンルーム内の金属メッシュ床等の構造物に流れているノイズ源の一部が、電子ビーム描画装置のアースに流れ、直接的、間接的に電子ビームに対し予期せぬ偏向作用を与え、描画精度を低下させるので、これを低減させる。【解決手段】電子ビーム描画装置2,4の据え付けに際して、電子ビーム描画装置2,3を絶縁材料8を介して金属メッシュ床5上に設置し、かつ絶縁材料6を介して側面より固定金具7を設置する。制御部2と電子光学鏡体4との間に共通アースを接続し、描画装置の代表一ヶ所のアース個所を、アース線9により大地アースおよび/または専用大地アースに接続する。これにより電子ビース描画装置のアースを据付け場所の導電体構造物と電気的に絶縁する。絶縁材料は、ゴム、樹脂、液体あるいは気体を用いて、金属メッシュ床5から電気的に分離する。

請求項（抜粋）：

電子光学鏡体と該電子光学鏡体の描画制御を行う制御部と該電子光学鏡体の内部を真空に保つ真空排気部とを床から電気的に分離して設置するための分離絶縁部材を、該電子光学鏡体、制御部および真空排気部の各々と床との間に挿入して設置し、かつ該電子光学鏡体と制御部と真空排気部とを共通線に接続し、該共通線を前記電子光学鏡体の代表一箇所から専用大地アース端子へ接続したことを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 L , G03F 7/20 504

Fターム (9件)：

2H097BA02 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5F056BC06 , 5F056CB11 , 5F056CC04 , 5F056DA23 , 5F056EA06 , 5F056EA17

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