特許

J-GLOBAL ID：200903077441040898

プラズマ処理装置

発明者： 豊田 一行 ,  田中 勉 ,  鈴木 貞之
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069137
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254500
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】プラズマ処理装置に於いて、プラズマ中の荷電粒子の壁面への衝突を抑止し、プラズマ発生用コイルの抵抗を減少させ、更に構造の簡略化を図る。【構成】反応室にプラズマ発生用コイル24を設け、或は又プラズマ発生用コイルの位置を変更可能とし、或はプラズマ発生用コイルの表面を絶縁材25で覆い、或はプラズマ発生用コイルをパイプで形成し、プラズマ発生用コイルに高周波電力を印加することによって生ずる交番磁界が反応室壁面を貫通することがなくなり、プラズマ中の荷電粒子の壁面への衝突を抑止でき、反応室壁面からの不要なガスの放出を防止でき、プラズマ発生用コイルのコイル径を小さくできてプラズマ発生用コイルの抵抗を小さくでき、高周波電力の供給を効率的に行える。

請求項（抜粋）：

反応室にプラズマ発生用コイルを設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C30B 25/06 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 C ,  H01L 21/31 C