特許
J-GLOBAL ID:200903077449992995
オキシランの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外9名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-537866
公開番号(公開出願番号):特表2002-507608
出願日: 1999年03月20日
公開日(公表日): 2002年03月12日
要約:
【要約】本発明は、オキシランを製造するための連続的な方法に関し、それは液相でゼオライトをベースにした触媒の存在下で且つ溶媒の存在下で、オレフィンを過酸化物と反応させること、及び連続的に反応器中へガス化合物を、製造されたオキシランの少なくとも部分を運んで反応器からの出口の地点でガス化合物とともに集めるのに十分な流量で入れることを含む。
請求項(抜粋):
エポキシドを製造する連続方法であって、オレフィンを、液相において反応器中でゼオライトをベースにした触媒の存在下かつ溶媒の存在下で過酸化物と反応させ、及び生成されたエポキシドのある量が運ばれるのに十分な流量でガス状化合物が該反応器中へ連続的に導入されて、エポキシドが反応器を出る地点で該ガス状化合物とともに回収されることを特徴とする方法。
IPC (3件):
C07D301/12
, C07B 61/00 300
, C07D303/04
FI (3件):
C07D301/12
, C07B 61/00 300
, C07D303/04
Fターム (3件):
4C048AA01
, 4C048BB02
, 4C048XX02
引用特許:
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