特許
J-GLOBAL ID:200903077454742379

プラズマ表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-220795
公開番号(公開出願番号):特開平6-049243
出願日: 1992年07月27日
公開日(公表日): 1994年02月22日
要約:
【要約】【目的】 従来不可能であった材料の表面改質が可能であり、しかもランニングコスト、設備費を低減することが可能なプラズマ表面処理装置を提供する。【構成】 グロープラズマを発生させて処理対象物の表面性状を改質するためのプラズマ表面処理装置の構成を、誘電体層4を挟んで対向し、かつその一方が多孔状をなす一対の電極1・2と、前記一方の電極に対向配置された第3の電極3と、前記一対の電極間にプラズマ発生用交流電圧を印加する交流電源装置10と、前記一方の電極2と前記第3の電極3との間の電位差を所定値に規定する手段11と、前記一方の電極の周囲にプラズマ発生可能な気体を供給するガス供給装置12・13とを有するものとし、前記一方の電極と前記第3の電極との間に配置した処理対象物17に表面処理を施すようにする。
請求項(抜粋):
グロープラズマを発生させて処理対象物の表面性状を改質するためのプラズマ表面処理装置であって、誘電体層を挟んで対向し、かつその一方が多孔状をなす一対の電極と、前記一方の電極に対向配置された第3の電極と、前記一対の電極間にプラズマ発生用交流電圧を印加する交流電源装置と、前記一方の電極と前記第3の電極との間の電位差を所定値に規定する手段と、前記一方の電極の周囲にプラズマ発生可能な気体を供給するガス供給装置とを有し、前記一方の電極と前記第3の電極との間に配置した処理対象物に表面処理を施すようにしてなることを特徴とするプラズマ表面処理装置。

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