特許
J-GLOBAL ID：200903077474426996
表面欠陥検出方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大浜 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-176819
公開番号（公開出願番号）：特開平7-035699
出願日： 1993年07月16日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 極めて簡易な方法および手段により被検査対象物の微少欠陥を的確に検出し得るようにする。【構成】 被検査対象物Wの表面状態を明るさの情報を持つ多数の画素a,a・・の集合によって構成される画像Aとして取り込み、該画像Aの所定領域Sに含まれる各画素a毎の階調値の総和平均と、前記領域aを1画素ずらした場合に含まれる各画素a毎の階調値の総和平均とを求め、両総和平均の差を1画素ずらす前の領域Sの中央に総和平均階調差Tとして入力する処理を前記画像Aの全領域に対して繰り返して行い、前記総和平均階調差Tの集合からなる処理画像A′に対して所定の抽出レベルを基準とする抽出処理を行って表面欠陥Nを検出するようにしている。
請求項（抜粋）：
被検査対象物の表面状態を明るさの情報を持つ多数の画素の集合によって構成される画像として取り込み、該画像の所定領域に含まれる各画素毎の階調値の総和平均と、前記領域を1画素ずらした場合に含まれる各画素毎の階調値の総和平均とを求め、両総和平均の差を1画素ずらす前の領域の中央に総和平均階調差として入力する処理を前記画像の全領域に対して繰り返して行い、前記総和平均階調差の集合からなる処理画像に対して所定の抽出レベルを基準とする抽出処理を行って表面欠陥を検出することを特徴とする表面欠陥検出方法。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, G06T 7/00
