特許

J-GLOBAL ID：200903077482043761

モリブデンもしくはタングステンを含有する層の析出法

発明者： ギュンター デーライン
出願人/特許権者： ゾルファイ ドイチュラント ゲゼルシャフト ミットベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-295639
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214546
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】 使用される出発化合物の入手が容易であり、かつ該化合物が空気に対して安定しているという利点を有する、モリブデンもしくはタングステンを含有する層の析出法。【構成】 モリブデンもしくはタングステンの配位化合物の分解下で層を析出する方法において、一般式(I):MR1R2(CO)3 (I)で示される化合物を使用する。

請求項（抜粋）：

モリブデンもしくはタングステンの配位化合物の分解下でモリブデンもしくはタングステンを含有する層を析出する方法において、一般式(I):MR1R2(CO)3 (I)〔式中、Mはモリブデンもしくはタングステンを表し、R1はシクロペンタジエニル基;(C1〜C3)-アルキル基1〜5個で置換されたシクロペンタジエニル基;シクロペンタトリエニル基、シクロオクタテトラエニル基を表し、R2は(C1〜C5)-アルキル基;(C2〜C5)-アルケニル基;(C2〜C5)-アルキニル基;ハロゲン原子、(C1〜C3)-アルコキシ基、(C1〜C3)-アルキルチオ基、フェニル基、置換フェニル基、ヘテロアリール基、オルガノシリル基で置換された(C1〜C5)-アルキル基、(C2〜C5)-アルケニル基又は(C2〜C5)-アルキニル基;アリール基;ヘテロアリール基;(C1〜C3)-アルキル基1個もしくはそれ以上で置換されたアリール基又はヘテロアリール基、(C1〜C3)3Siを表す〕で示される化合物を使用することを特徴とする、モリブデンもしくはタングステンを含有する層の析出法。

IPC (5件)：

C23C 18/12 ,  C23C 16/18 ,  C23C 18/14 ,  H05K 3/10 ,  H05K 3/14