特許
J-GLOBAL ID：200903077489628870
レーザアブレーション法を用いた成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-191232
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045141
出願日： 1993年08月02日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 面内配向している膜を成膜することができる、レーザアブレーション法を用いた成膜方法を提供する。【構成】 ターゲットにレーザを照射することによりターゲット表面から飛散する物質を基板上に堆積させることにより成膜を行なうレーザアブレーション法を用いた成膜方法であって、成膜前、成膜中または成膜後に、膜面または基板に対して5 ゚以上85 ゚以下の方向からエキシマレーザを照射することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ターゲットにレーザを照射することによりターゲット表面から飛散する物質を基板上に堆積させることにより成膜を行なうレーザアブレーション法を用いた成膜方法であって、成膜中または成膜後に、膜面に対して5 ゚以上85 ゚以下の方向からエキシマレーザを照射することを特徴とする、レーザアブレーション法を用いた成膜方法。
IPC (6件)：
H01B 13/00 565
, C01G 1/00
, C23C 14/34
, C30B 23/08 ZAA
, C30B 29/22 501
, H01B 12/06 ZAA
