特許
J-GLOBAL ID：200903077501124930
レーザー干渉によるフォトニック結晶構造の作成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮本 晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-329920
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【目的】 レーザー光の干渉パターン形成法を用いた3次元フォトニック結晶構造の製造法の提供【構成】 一本のレーザーを複数に分けた光束を互いに角度を持って感光性樹脂層中に照射してレーザー光の干渉によりフォトニック結晶構造を構成する格子構造に対応する像を前記感光性樹脂層中に形成する工程を含む、感光性樹脂を用いてレーザー干渉によりフォトニック結晶の格子構造を作成する方法、特にレーザー光の干渉によりフォトニック結晶構造を構成する格子構造に対応する像を前記感光性樹脂層中に形成する工程が、一本のレーザーを3つに分けた光束の干渉による2次元格子構造に対応する像と一本のレーザー光を2つに分けた光束の干渉による1次元周期構造に対応する像との合成により形成するものである、または一本のレーザーを4つに分けた光束の干渉によるものであるレーザー干渉によりフォトニック結晶の最密格子構造を作成する方法。
請求項（抜粋）：
一本のレーザーを複数に分けた光束を互いに角度を持って感光性樹脂層中に照射してレーザーの干渉によりフォトニック結晶構造を構成する格子構造に対応する像を前記感光性樹脂層中に形成する工程を含む、感光性樹脂を用いてレーザーの干渉によりフォトニック結晶の格子構造を作成する方法。
Fターム (6件)：
2H049AA02
, 2H049AA25
, 2H049AA34
, 2H049AA43
, 2H049AA55
, 2H049AA59
