特許

J-GLOBAL ID：200903077515255700

排ガス処理方法及び装置

発明者： 渡部 輝雄
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-114962
公開番号（公開出願番号）：特開2000-300952
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】 炭素質吸着剤を用いてDXN類を始めとする有毒物質をさらに効率良く除去できる排ガス処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 比表面積350m2/g以下の活性チャーと比表面積500m2/g以上の活性炭とが所定の割合で混合・充填されており、排ガスがラインL1を介して導かれる吸着反応塔1、この混合炭素質吸着剤を加熱して再生処理する脱離塔2、分離器3、の間で混合炭素質吸着剤を循環させ、循環に伴って滅失した炭素質吸着剤に応じて活性チャーと活性炭とを貯留タンク4、5から所定の割合でそれぞれ補給する。

請求項（抜粋）：

ダイオキシンを含む有害物質を炭素質吸着剤により吸着除去する排ガス処理方法であって、比表面積350m2/g以下の第一の炭素質吸着剤と比表面積500m2/g以上の第二の炭素質吸着剤とを所定の割合で吸着反応塔に混合・充填して、この混合炭素質吸着剤と前記排ガスとを接触させて、前記排ガス中の有害物質を吸着除去処理する処理工程と、脱離塔に導いた前記混合炭素質吸着剤を加熱して再生処理する再生工程と、前記混合炭素質吸着剤を前記吸着反応塔と前記脱離塔の間で循環させる循環工程と、前記循環に伴って滅失した炭素質吸着剤に応じて所定の割合で前記第一の炭素質吸着剤と前記第二の炭素質吸着剤をそれぞれ補給する補給工程と、を備えていることを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/34

FI (4件)：

B01D 53/34 134 E ,  B01J 20/20 Z ,  B01J 20/34 D ,  B01D 53/34 ZAB

Fターム (36件)：

4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002AA29 ,  4D002AC04 ,  4D002BA04 ,  4D002BA14 ,  4D002CA08 ,  4D002DA21 ,  4D002DA22 ,  4D002DA24 ,  4D002DA41 ,  4D002EA08 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB06 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002HA10 ,  4G066AA05B ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA23 ,  4G066CA28 ,  4G066CA33 ,  4G066CA47 ,  4G066DA02 ,  4G066GA01 ,  4G066GA22 ,  4G066GA23 ,  4G066GA27 ,  4G066GA35