材料処理のためのQスイッチCO2レーザ

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川和高穂
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-580446
公開番号（公開出願番号）：特表2004-535663
出願日： 2002年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

材料処理のための同時スーパーパルス・QスイッチCO2レーザシステムが開示されている。システムは、レーザの出力波長を選択するフィルムが被覆されたホルダミラーを有する封じ込み折り曲げ導波路を備えている。システムは、更に、キャビティを形成する複数の反射デバイス、キャビティ内に配置されてレーザビームを発生する利得媒質、レーザビームを変調して、1以上のパルスを生じるキャビティロスモジュレータ、キャビティロスモジュレータに接続されて、キャビティロスモジュレータにパルス信号を送って、キャビティ内の光損失状態を制御するパルス信号発生システム、パルス信号発生システムに接続されて、パルス信号発生システムを制御するコントロールユニット、および、パルス信号発生システムに接続され、レーザビームの部分を受け入れて、レーザパルスの部分を切り取るパルスクリップ回路を備えている。

請求項（抜粋）：

下記を備えた、材料処理のためのQスイッチCO2レーザシステム: 光共振器を形成する複数のミラー; 前記光共振器内に配置されてレーザビームを生じる利得媒質; 高損失状態から低損失状態、または、低損失状態から高損失状態へとキャビティ内の損失をスイッチし、それにより1またはそれ以上のパルスを発生するキャビティロスモジュレータ; 前記キャビティロスモジュレータに接続されて、パルス信号をキャビティロスモジュレータに伝送し、前記光共振器ないの光損失の状態を制御するパルス信号発生システム; 前記パルス信号発生システムに接続されて、パルス信号発生システムを制御するコントロールユニット;および前記レーザビームの部分を受け入れ、そして、前記パルス信号発生システムに接続されて、前記レーザビームの部分を切り取るパルスクリップ回路。

IPC (6件)：

H01S3/107 , G02F1/015 , G02F1/061 , H01S3/0943 , H01S3/115 , H01S3/117

FI (6件)：

H01S3/107 , G02F1/015 502 , G02F1/061 505 , H01S3/115 , H01S3/117 , H01S3/094 G

Fターム (22件)：

2H079AA02 , 2H079AA04 , 2H079AA12 , 2H079BA01 , 2H079BA02 , 2H079CA22 , 2H079DA16 , 2H079FA01 , 2H079FA03 , 2H079FA04 , 2H079KA05 , 2H079KA14 , 2H079KA18 , 2H079KA19 , 5F072AA05 , 5F072GG05 , 5F072HH05 , 5F072KK07 , 5F072KK11 , 5F072MM16 , 5F072SS06 , 5F072YY06

引用特許：

審査官引用 (1件)

パルスエネルギートリマを備えるパルスレーザ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-205275 出願人：サイマーインコーポレイテッド

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