特許

J-GLOBAL ID：200903077537307429

レーザ描画装置の描画方法

発明者： 柳坂 博
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314594
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133988
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 レーザ描画装置において、設計パターンに対して描画パターンが大きくまたは小さくなる幅が奇数ドットである場合にも0.5ドット幅分の偏りを生ずることなく、設計パターンに一致する補正された描画パターンを得ることのできる描画方法を提供することを目的としている。【解決手段】 設計パターンを描画するための描画データに基づいて描画された描画パターンが、格子方向においてMドット分大きくなる場合には、K=INT(M/2)として、描画パターンが設計パターンに対して大きくなる方向における描画パターンの両端部に対応する描画データをそれぞれKドット分削除し、さらにMが奇数の場合には、前記描画パターンが設計パターンに対して大きくなる方向における前記描画パターンの一方の端部に対応する描画データをさらに1ドット分削除して前記描画データを補正し、前記描画装置における描画開始位置を、前記一方の端部側に0.5ドット分シフトし、補正された描画データに基づいて描画を行う。

請求項（抜粋）：

所定のドットピッチで格子状に配置されるドットによりパターンを形成するレーザ描画装置において、設計パターンを描画するための描画データに基づいて描画された描画パターンが、格子方向において設計パターンと異なるサイズを有する場合に、設計パターンと同サイズのパターンを描画するために前記描画パターンを補正する方法であって、描画パターンのサイズが設計パターンのサイズと異なる方向における描画パターンのサイズが設計パターンのサイズと一致するよう、前記描画パターンの両端部に対応する描画データを補正し、前記補正された描画データにより描画されるパターンの描画位置が前記設計パターンの位置に一致するように描画開始位置をシフトして描画すること、を特徴とするレーザ描画装置の描画方法。

IPC (5件)：

G03F 7/20 505 ,  B41J 2/485 ,  B41J 29/46 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06

FI (5件)：

G03F 7/20 505 ,  B41J 29/46 B ,  H05K 3/00 H ,  H05K 3/06 E ,  B41J 3/12 B

Fターム (15件)：

2C061AP10 ,  2C061AQ03 ,  2C061AS11 ,  2C061KK26 ,  2C061KK33 ,  2C062AA24 ,  2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09 ,  5E339BE11 ,  5E339CF16 ,  5E339DD03 ,  5E339FF01