特許
J-GLOBAL ID：200903077540475502
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-207393
公開番号（公開出願番号）：特開平8-077964
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】カドラポール型の質量分析部を備えた高周波誘導結合プラズマ質量分析装置において、時間的に変動する現象についても2種類の元素の測定をほぼ同時に行えるようにして、内標準分析を可能にする。【構成】二組のQPフィルター5aと検出器6a、および、5bと6bを備えている。サンプリングコーン1から導入されたイオンビーム8は別の質量数に設定されたQPフィルター5aおよび5bにビーム偏向器7によって数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔で時分割的に送り込まれ、検出器6aおよび6bでそれぞれ計数される。フラッシュアトマイザの手法のように短い時間で変動する現象についても、目的の元素と標準元素の強度がほぼ同時に測定されることによって、内標準分析が可能となる。
請求項（抜粋）：
カドラポール型の質量分析部を備えた高周波誘導結合プラズマ質量分析装置において、二組以上のカドラポールマスフィルターおよび検出器と、それぞれのカドラポールマスフィルターにイオンビームを振り分けて入射させるビーム偏向手段と、前記ビーム偏向手段のビーム偏向動作を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析装置。
IPC (3件)：
H01J 49/42
, G01N 27/62
, H01J 49/06
