特許
J-GLOBAL ID:200903077579129024

処理剤を充填した処理塔内の集液機構

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 武文 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-178506
公開番号(公開出願番号):特開平7-008788
出願日: 1993年06月28日
公開日(公表日): 1995年01月13日
要約:
【要約】【目的】 処理剤を充填した処理塔内底部に集液管を設置した集液機構において、液の滞留を防止する。【構成】 処理剤を充填した塔の内底部に、山部と谷部を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の各谷部上に集液管を設置した構成において、上記集液管は、下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液小孔の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものである、処理剤を充填した処理塔内の集液機構。
請求項(抜粋):
処理剤を充填した塔の内底部に、山部と谷部を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の各谷部上に集液管を設置した構成において、上記集液管は、下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液小孔の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものである、処理剤を充填した処理塔内の集液機構。
IPC (3件):
B01J 8/02 ,  B01D 15/00 ,  B01J 47/02

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