特許
J-GLOBAL ID：200903077579982258
半導体洗浄装置の排気ガス制御機構
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-335096
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163494
出願日： 1992年11月20日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 半導体洗浄装置の排気ガスを円滑に排出できる制御機構を提供する。【構成】 第1の実施例は、筐体1の各扉11b,12b の開放を検出する扉センサ61,62 と、排出管15の排気ガスの排出量を制御する排気ダンパ64、および排気ダンパ64の入出力の圧力差を検出する圧力差センサ63よりなる検出制御手段6を設ける。また、各扉11b,12b の閉鎖時には、入力した圧力差センサ63の検出信号により、排気ファン41の送風量を適量に調整するファン制御信号と、排気ダンパ64の排出量を一定量に制御するダンパ制御信号とをそれぞれ出力し、各扉の開放時には、入力した扉センサ61,62 の検出信号により、排気ファン41の送風量を倍増する倍増制御信号を出力する制御信号発生部7を設けて構成される。第2の実施例においては、第1の実施例に対して、1入力2出力ゲート65と、排気ポンプ66、および制御回路が追加される。【効果】 排気ガスは各扉の閉鎖中と開放中に、つねに円滑に排出されて筐体内に滞留せず、従って筐体の各部の腐食と壽命の減退が防止される。
請求項（抜粋）：
両側板にそれぞれ通過窓と開閉扉を有する筐体に対して、その内部を、通過窓を有する仕切板により左右に区分し、純水と揮発性を有する洗浄薬剤の混合溶液を充たした薬剤槽と、純水のみを充たした純水槽をそれぞれ配置し、前記各開閉扉を開放して、ハンドリング機構により被洗浄の半導体ワークを前記各通過窓を通して該筐体内部に搬送し、該搬送が終了したのち前記各開閉扉を閉鎖して、前記薬剤槽による薬剤洗浄と、前記純水槽による純水洗浄を行い、かつ、純水槽の上部に設けられ、前記筐体内にエアを送風する排気ファンと、前記筐体の背面の側板に設けられ、該エアと前記洗浄薬剤の揮発ガスの混合した排気ガスを、共通排気管に排出する排出管よりなる排気機構を具備した半導体洗浄装置において、前記各開閉扉に取り付けられ、それぞれの開放を検出する扉センサと、前記排出管に直列に接続され、前記排気ガスの排出量を制御する排気ダンパ、および該排気ダンパの入出力の圧力差を検出する圧力差センサとよりなる検出制御手段と、前記各センサの検出信号が入力し、前記各開閉扉の閉鎖時には、該入力した圧力差センサの検出信号により、前記排気ファンの送風量を適量に調整するファン制御信号と、前記排気ダンパの排出量を一定量に制御するダンパ制御信号とをそれぞれ出力し、前記各開閉扉の開放時には、該入力した扉センサの検出信号により、前記排気ファンの送風量を倍増する倍増制御信号を出力する、制御信号発生部とを設けて構成されたことを特徴とする、半導体洗浄装置の排気ガス制御機構。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 15/04
