特許
J-GLOBAL ID：200903077587655517
PDPの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-096706
公開番号（公開出願番号）：特開平8-293253
出願日： 1995年04月21日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：
【要約】【目的】電極を変質させることなく、放電による放電空間の清浄化を行って特性の安定したPDPを製造することを目的とする。【構成】基板11上に複数の電極Yを配列し、各電極Yの全体を耐熱性保護層17,50で被覆した後に、基板11と他の基板21とを各電極Yの端部43が基板21の端縁から張り出すように対向配置し、基板11,21を一体化して放電のための内部空間30を形成し、加熱した状態で内部空間30の排気を行う際に、耐熱性保護層17,50の内の端部43を被覆する部分の層として導電性を有した層50を形成しておき、排気の途中で内部空間30に放電ガスを導入して放電を生じさせた後に、再び内部空間の排気を行って放電ガスを導入する。
請求項（抜粋）：
第1の基板上に複数の電極を配列し、前記各電極の全体を耐熱性保護層で被覆した後に、前記第1の基板と第2の基板とを前記各電極の端部が前記第2の基板の端縁から張り出すように対向配置し、前記第1及び第2の基板を一体化して放電のための内部空間を形成し、前記第1及び第2の基板を加熱した状態で前記内部空間の排気を行うPDPの製造方法であって、前記耐熱性保護層の内、前記各電極の前記端部を被覆する部分の層として導電性を有した層を形成しておき、前記内部空間の排気の途中の段階で前記内部空間に放電ガスを導入し、前記導電性を有した層を介して前記各電極に電圧を印加し、前記第1及び第2の基板が加熱された状態の前記内部空間内で放電を生じさせた後に、再び前記内部空間の排気を行って放電ガスを導入し、前記内部空間を完全に密閉することを特徴とするPDPの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/38 A
, H01J 11/00 C
