特許
J-GLOBAL ID:200903077588212538
PTCサーミスタ
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山田 義人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-179195
公開番号(公開出願番号):特開平5-029104
出願日: 1991年07月19日
公開日(公表日): 1993年02月05日
要約:
【要約】【構成】 磁器層14および18の間に比較的密度の小さい磁器層16を挟んで一体焼成し、3層構造のPTCサーミスタ素子12を形成する。PTCサーミスタ素子12の内部に発生する圧縮応力は、気孔によって吸収される。【効果】 PTCサーミスタ素子内に発生する応力を小さくでき、破壊特性が向上する。
請求項(抜粋):
多層構造のPTCサーミスタ素子を含むPTCサーミスタであって、前記PTCサーミスタ素子の内層の密度を最外層の密度より小さく設定した、PTCサーミスタ。
引用特許:
前のページに戻る