特許

J-GLOBAL ID：200903077600601502

混合装置

発明者： 角掛 泰洋 ,  川嵜 一政
出願人/特許権者： トキコ株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-215609
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038187
出願日： 1999年07月29日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】 本発明はタンクに成分の異なる液体を供給させて混合する際の液補充回数に伴う混合液の濃度変化を抑制することを課題とする。【解決手段】 混合装置10は、HFタンク11に貯留された50%フッ化水素酸と、純水製造装置21により生成された純水とを供給タンク13に供給して所定の割合で混合し、供給タンク13において混合された混合液を供給タンク13の下流側に設置された半導体製造装置45に供給するように構成されている。制御部19は、供給タンク13に各液体を所定の比率で混合させる液混合処理を所定回数(例えば10回)行った後、次回(例えば11回目)の液混合処理で液体の計量を所定回数の累積誤差分だけ少なく行うため、薬液の供給を制御する弁の応答遅れに伴う微少な誤差が累積されても液混合処理を所定回数行う度に所定回数の累積誤差を補正することができる。

請求項（抜粋）：

成分の異なる液体毎に設けられ計量手段及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に基づき前記弁手段を制御する制御手段と、を有する混合装置において、前記制御手段は、前記供給タンクに所定量の各液体を補充する液補充処理を所定回数行ううちの一回の液補充処理が累積誤差分の補正を行うことを特徴とする混合装置。

IPC (2件)：

B01F 15/04 ,  B01F 3/08

FI (2件)：

B01F 15/04 D ,  B01F 3/08 Z

Fターム (7件)：

4G035AB36 ,  4G035AE02 ,  4G037BA01 ,  4G037BC02 ,  4G037BD02 ,  4G037BE03 ,  4G037BE04