特許
J-GLOBAL ID：200903077602229082
奥行計測方法と奥行計測装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-187969
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037378
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 ステレオ法で奥行を求めるとき、領域ベースの手法では計算コストが大きく、特徴ベースの手法では取得できる対応点の数が少ない。 【解決手段】 注目点P1の対応点は検出できず、その奥行値は不明である。しかし、その点の周囲の点PiとPjについては対応点が検出され、奥行値が既知である。そこで、注目点P1の奥行値を補間で求め、それをもとに仮の対応点位置を求め、その位置付近で領域ベースの探索を実施し、対応点位置の精度を高める。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
第1画像上の注目点の属性に基づき、当該注目点の第2画像上の対応点を取得する属性ベース探索部と、
対応点が取得できた注目点について三角測量の原理によって奥行値を算出する奥行算出部と、
対応点が取得できなかった注目点の奥行値を、すでに奥行値が存在する1つ以上の注目点の奥行値からの補間によって導出する奥行補間部と、
導出された奥行値から、前記対応点が取得できなかった注目点の仮対応点を定める仮対応点取得部と、
領域ベースの探索を前記仮対応点付近に限定して実行し、前記仮対応点よりも正確な対応点を取得する対応点再計算部と、
を備え、前記奥行算出部は、前記対応点再計算部によって、より正確な対応点が取得された注目点について奥行値を算出することを特徴とする奥行計測装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B11/00 H
, G06T1/00 315
2F065AA04
, 2F065AA06
, 2F065AA12
, 2F065BB05
, 2F065DD04
, 2F065FF05
, 2F065FF09
, 2F065HH07
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065QQ17
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
, 2F065QQ37
, 2F065UU05
, 5B057AA20
, 5B057CA12
, 5B057CB13
, 5B057CD14
, 5B057CH08
