特許
J-GLOBAL ID：200903077603958967
光ディスク用原盤の露光方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001875
公開番号（公開出願番号）：WO1999-053488
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月21日
要約：
【要約】感光性材料が塗布された原盤上に照射されるレーザビームのスポット幅を、容易に、広範囲に調整できる光ディスク用原盤の露光方法及び露光装置を提供する。レーザビーム102を対物レンズ108により感光性材料の塗布された原盤109上に集光してグルーブ又はピットを記録する光ディスク用の原盤の加工方法において、レーザビーム102の光軸中に非点収差生成部119を設け非点収差量を調整すると共に、自動合焦位置調整手段114にて合焦位置を調整することにより広範囲で自由度の高いスポット幅の調整を行う。
請求項（抜粋）：
感光性材料が塗布された原盤に変調されたレーザビームを照射し、該原盤に光記録媒体のグルーブ又はピットの潜像を形成する原盤露光装置であって、 レーザビームを出射するレーザビーム発生手段と、 供給される情報信号によって前記レーザビームを強度変調する強度変調手段と、 前記強度変調された前記レーザビームを前記原盤上に集光する対物レンズの高さ位置を調整する合焦位置調整手段と、 集光したレーザビームを前記原盤上に相対的に走査させるビーム走査手段と、 前記レーザ発生手段及び前記合焦位置調整手段の相互間に設けられて前記レーザビームに非点収差を与えかつこの非点収差の量を任意に設定可能な非点収差設定手段と、 を備える原盤露光装置。
IPC (3件)：
G11B 7/135
, G11B 7/20
, G11B 7/26
