レジストの回転塗布方法及びレジスト塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-016687
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077120
出願日： 1993年02月04日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】高速回転による乱流の発生を抑えたレジストの回転塗布方法及びレジスト塗布装置を得る。【構成】回転するウエハ11に対向して配置する整流板13の対向面に、ウエハ11の回転軸を中心とする同心円状の溝13Aを形成して、ウエハ11の回転に伴なって発生する乱流を溝13Aに閉じ込めて乱流の成長を抑制する。これにより、乱流の大規模化を防止して、レジスト膜厚の均一性を向上する。

請求項（抜粋）：

基板にレジストを滴下した後、該基板を回転させ該レジストを塗布するレジストの回転塗布方法において、前記基板上に発生する乱流を防止する整流板を該基板の上方に該基板に対して平行となるように配置すると共に、前記整流板に溝を形成したことを特徴とするレジストの回転塗布方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-043728
特開昭62-185321
特開昭62-140674

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