特許
J-GLOBAL ID：200903077610467707
光磁気記録媒体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351638
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166235
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 ディスクの内周から外周にかけて、記録に必要とするレーザ光強度の変化の少ない光磁気ディスクの製造装置を得る。【構成】 基板1は、回転導入機3により面内で自転が可能である。一対の支持体兼用電極4は、その間に抵抗加熱式の蒸発源5を支持している。支持体6には、基板ホルダ2および膜厚補正用マスク7が支持されている。基板1の中心と膜厚補正用マスク7の中心は同軸上にある。膜厚均一化用マスク10が支持体9により支持され、膜厚補正用マスクよりも蒸発源側に配置されている。膜厚均一化用マスク10は回転導入機11により面内で自転させられる。これにより、基板及び膜厚補正用マスクが必ずしも蒸発源の直上に配置されていなくても、膜厚分布を所定の分布とすることが可能となり、複数の基板に同時に成膜することが可能となる。
請求項（抜粋）：
蒸発源と円板状の基板との間に、膜厚を基板の径方向に連続的あるいは段階的に変化させ、その際に外周側の方が内周側よりも膜厚が小さく、あるいは大きくなるように開口部を設定した円板状の膜厚補正用マスクを配置し、該膜厚補正用マスクよりも蒸発源側に円板状の膜厚均一化用マスクを配置し、該膜厚均一化用マスクを面内で自転させ、かつ基板あるいは膜厚補正用マスクの少なくとも一方を面内で自転させながら真空蒸着することを特徴とする光磁気記録媒体製造装置。
IPC (2件)：
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