特許
J-GLOBAL ID：200903077615189080
水処理方法およびその水処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高月 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122944
公開番号（公開出願番号）：特開平5-305298
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：
【要約】【目的】 高濃度のオゾンを多量に注入できるオゾン供給装置を使用して浄化処理システムを構築することで、不純物を含む処理対象水を浄化処理して飲料水、純水、半導体用の超純水を得ることさらに海水から淡水を得ることが容易な水処理方法とその装置を提供するものである。【構成】 オゾン供給装置10、11、12、ろ過装置16、17および紫外線照射装置18を備えた処理系に、精密フィルター19とイオン交換樹脂20とによる高浄化工程Bを加え、処理対象水2をオゾン供給装置、ろ過装置および紫外線照射装置にて処理して浄水としたものを高浄化工程Bで超純水化処理すると共に液中の溶存酸素量を低減し、直ぐに使用できる超純水や飲料水として、最終工程より処理系外に流出自在とする水処理方法とその装置。
請求項（抜粋）：
オゾン供給装置、ろ過装置および紫外線照射装置を備えた処理系に、処理対象水を流して浄化する水処理方法に於いて、上記処理系に、精密フィルターとイオン交換樹脂とによる高浄化工程を加え、処理対象水をオゾン供給装置、ろ過装置および紫外線照射装置にて処理して浄水としたものを高浄化工程で超純水化処理すると共に液中の溶存酸素量を低減し、直ぐに使用できる超純粋や飲料水として最終工程より処理系外に流出自在とすることを特徴とする水処理方法。
IPC (7件)：
C02F 9/00
, C02F 1/20
, C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/44
, C02F 1/50
, C02F 1/78
