真空装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-076225
公開番号（公開出願番号）：特開平7-280099
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】チャンバー内を排気中にチャンバー内の一時的な圧力の上昇を防止する。【構成】真空装置本体としてのチャンバー2と、チャンバー2にねじ8で固定されたOリング押さえ部材9とでOリング溝4が形成されている。チャンバー2には排気通路7が形成され、この排気通路7は、Oリング溝4とOリング5との間の真空側の隙間部6と、チャンバー2と扉3との間の真空側の間隙とを連通する。真空状態になっているチャンバー2内にガスや空気を導入し、チャンバー2の内圧を大気圧以上にしてから扉3を開ける。この段階で、前記ガスや空気が隙間部6に流れ込み、隙間部6はガスや空気で充満される。この状態で扉3を閉め、チャンバー2内の排気を始めると、隙間部6内のガスや空気が排気通路7を介してチャンバー2内に流れ、チャンバー2内と隙間部6とを同時に排気でき、同時に真空にする。

請求項（抜粋）：

真空装置本体と、該真空装置本体に設けられた扉とを備え、前記真空装置本体あるいは前記扉に、前記真空装置本体と前記扉との間をシールするためのOリングが装着される溝が環状に形成された真空装置において、前記真空装置本体あるいは前記扉に、前記溝と前記Oリングとの間の真空側の隙間部と、前記真空装置本体と前記扉との間の真空側の間隙とを連通する排気通路が形成されていることを特徴とする真空装置。

IPC (3件)：

F16J 15/06 , F16J 12/00 , G12B 9/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-182670
特開昭62-221435
特開平1-182670

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