特許

J-GLOBAL ID：200903077625702273

真空蒸着装置

発明者： 中河原 均 ,  村上 俊一
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245684
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065722
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：

【要約】【目的】 蒸着工程の開始時の、蒸発速度の乱れが無いようにできる真空蒸着装置を提供する。【構成】 真空室10内に蒸発源11、基板ホルダー12およびシャッター18が設置してある。蒸発源11に立てた法線15の近傍に、膜厚計センサー16が設置してある。シャッター18は、2枚のシャッター板18a、18bが互いに離接する構造で、シャッター板18a、18bの互いに離接する側縁に切欠部19a、19bが形成してある。蒸発粒子は開口部20、13を通って膜厚計センサー16に、常時、入射する。

請求項（抜粋）：

真空室内に、蒸発源、基板ホルダーおよびシャッターを備えてなる真空蒸着装置において、前記蒸発源に立てた法線の近傍に、シャッターの動作位置と無関係に、常時蒸発源に対して露出している膜厚計センサーが設置してあることを特徴とする真空蒸着装置。