特許

J-GLOBAL ID：200903077650774173

感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法

発明者： 佐々木 範
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269673
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092133
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、感光材料、及びレリーフパターン及びポリイミドパターンの製造法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるα-(アルキルチオ)アクリロニトリル、下記一般式(II)で表されるチタノセン化合物及び付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物、下記一般式(I)で表されるα-(アルキルチオ)アクリロニトリル、下記一般式(II)で表されるチタノセン化合物及び化学線により2量化又は重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体を含有してなる感光材料、前記感光性組成物又は前記感光材料の塗膜に活性光線をパターン状に照射し、未照射部を現像除去する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)【化1】(式中、Rは、炭素原子数1〜20のアルキル基を示す)で表されるα-(アルキルチオ)アクリロニトリル、下記一般式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を示す)で表されるチタノセン化合物及び付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/029 ,  C08F 28/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 514

FI (6件)：

G03F 7/029 ,  C08F 28/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 514

Fターム (40件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BA07 ,  2H025BC03 ,  2H025BC14 ,  2H025BC36 ,  2H025BC38 ,  2H025BC49 ,  2H025CA39 ,  2H025CA41 ,  2H025CB25 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB04Q ,  4J100AB16Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL62Q ,  4J100AL63Q ,  4J100AL66Q ,  4J100AL67Q ,  4J100AM03P ,  4J100AM19Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AM24Q ,  4J100AQ08Q ,  4J100AQ12Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA08Q ,  4J100BA31Q ,  4J100BA51P ,  4J100CA04 ,  4J100FA10 ,  4J100JA37