特許
J-GLOBAL ID:200903077652280682
ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、および液滴吐出ヘッド
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小林 久夫
, 安島 清
, 佐々木 宗治
, 大村 昇
, 高梨 範夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-226556
公開番号(公開出願番号):特開2007-038570
出願日: 2005年08月04日
公開日(公表日): 2007年02月15日
要約:
【課題】 加工中にシリコン基板が割れたり欠けたりすることがなく、またノズル孔内に樹脂や研磨材等の異物が残留するようなことがなく、歩留まりおよび生産性を向上することができる液滴吐出用のノズルプレートの製造方法および液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板100の一方の面に、液滴を吐出するためのノズル孔11の噴射口部分11aとなる第1の凹部107と、導入口部分11bとなる第2の凹部108とを予め形成しておき、このシリコン基板の一方の面並びに第1および第2の凹部内に、樹脂との接着力の弱い撥インク層111を形成し、撥インク層111を形成したシリコン基板の面に、樹脂を用いて支持基板400を貼り合わせ、シリコン基板を他方の面から所要の厚さに薄板化し、支持基板400をシリコン基板から剥離し、さらにシリコン基板から前記樹脂および撥インク層111を除去することにより、ノズルプレート1を作製する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
被加工基板の一方の面に、液滴を吐出するためのノズル孔の噴射口部分となる第1の凹部と、導入口部分となる第2の凹部とを形成する工程と、
前記被加工基板の一方の面並びに前記第1および第2の凹部内に、樹脂との接着力の弱い弱接着性層を形成する工程と、
前記弱接着性層を形成した前記被加工基板の面に、前記樹脂を用いて支持基板を貼り合わせる工程と、
前記被加工基板を他方の面から所要の厚さに薄板化する工程と、
前記支持基板を前記被加工基板から剥離する工程と、
前記被加工基板から前記樹脂および前記弱接着性層を除去する工程と、
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B41J3/04 103N
, B41J3/04 103H
Fターム (12件):
2C057AF71
, 2C057AF93
, 2C057AG14
, 2C057AP02
, 2C057AP13
, 2C057AP22
, 2C057AP24
, 2C057AP32
, 2C057AP33
, 2C057AP52
, 2C057AP53
, 2C057AP60
引用特許:
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